对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-O2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四氟化碳的热稳定性更好。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198°C时，四氟化碳具有单斜的结构，高纯四氟化碳，晶格常数为a=8.597，四氟化碳公司，b=4.433，c=8.381(.10-1nm)，β=118.73°。四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。反应放热后，四氟化碳，氟开始和碳化硅进行反应，通入等体积的干燥氮气以稀释氟气，使反应继续进行，生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化。四氟化碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造，以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。产品经除尘，碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏，通过控制精馏温度，除去O2、N2、H2，得到高纯CF4。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，它被紫外线辐射击中时会分离。碳-氟键比较强，四氟化碳批发，因此分离的可能性比较低。四氟化碳，又称为四氟甲1烷、Freon-14及R14，是一种卤代烃(化学式:CF4)。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲1烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。四氟化碳-谱纯气体|各地配送-高纯四氟化碳由安徽谱纯气体科技有限公司提供。安徽谱纯气体科技有限公司是安徽合肥,工业气体的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在安徽谱纯领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创安徽谱纯更加美好的未来。)