
电镀金刚石磨盘制作-电镀金刚石磨盘-光明金刚石工具
复合片抛光与二次焊接复合片抛光:抛光的目的是把刀片上表面(即前刀面)抛光成镜面,一般要求达到Ra0.1um以下。刀具前刀面抛光后可以减少与切屑的摩擦与粘结,延长其寿命;同时还可以改善刀刃的平整度与锋利性,提高切削加工的精度。复合片的抛光用专门的抛光机。二次焊接:是指将复合片焊接至刀体上。所用设备多为高频感应焊接设备,所用焊料为银铜焊料和钎剂。焊接温度为650~700度之间。温度不可过高,焊接过程中应保持各焊接面干净。合理选用钎剂有利于提高焊接强度和改善复合片基体与刀体材料的焊接性能。一般来说二次焊接的强度为180~200MPa,可满足金刚石刀具切削加工的要求。另外,为了改善刀具的外观,可以用油石条磨掉多余的银铜,用喷砂法去除表面氧化层,用表面镀Ni法或用钝化液浸泡防止刀体的氧化生锈。表面金属化后焊接金刚石表面的金属化是通过表面处理技术在金刚石表面镀覆金属,使其表面具有金属或类金属的性能。一般是在金刚石的表面镀Ti,Ti与C反应生成TiC,TiC与Ag-Cu合金钎料有较好的润湿性和结合强度。目前常用的金刚石工具镀钛方法有:真空物理的气相沉积(PVD,主要包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀等),化学气相镀和粉末覆盖烧结。PVD法单次镀覆量低,镀覆过程中金刚石的温度低于500℃,电镀金刚石磨盘制作,镀层与金刚石之间是物理附着、无化学冶金。CVD法Ti与金刚石发生化学反应形成强力冶金结合,反应温度高,损害金刚石。沉积金刚石薄膜的机理至今尚无定论磨料磨具中低温低压下CVD法沉积金刚石薄膜的机理至今尚无定论,仍是今后的研究方向之一。晶体的形成分为两个阶段,早阶段称为晶体成核阶段,第二阶段晶体生长阶段。早阶段含碳的气源在合适的工艺参数下,在沉积基体上形成一定数量的孤立的金刚石晶核;第二阶段,金刚石晶核不断长大,并连成一片,电镀金刚石磨盘公司,覆盖整个基体的表面,电镀金刚石磨盘供应商,再沿垂直方向生长,形成一定厚度的金刚石膜。在早阶段主要目的是尽快的在基体表面上形成金刚石晶核,电镀金刚石磨盘,并能有效的控制金刚石的密度,要大限度的提高金刚石的形核密度;在第二阶段主要目的是让已形核的金刚石长大,并能有效的控制金刚石膜的生长速度和质量。电镀金刚石磨盘制作-电镀金刚石磨盘-光明金刚石工具由荥阳市光明金刚石实业有限公司提供。荥阳市光明金刚石实业有限公司坚持“以人为本”的企业理念,拥有一支高素质的员工队伍,力求提供更好的产品和服务回馈社会,并欢迎广大新老客户光临惠顾,真诚合作、共创美好未来。光明金刚石——您可信赖的朋友,公司地址:河南省荥阳市万山南路,联系人:吴经理。同时本公司还是从事金刚石工具电镀,金刚石锯片电镀,金刚石磨盘电镀的厂家,欢迎来电咨询。)